Čína začala podnikat první kroky k osvobození se od technologické závislosti na cizích zemích. Podle zprávy agentury Reuters země zahájila hromadnou výrobu přístrojů pro hluboké ultrafialové (DUV) ponoření do litografie, což je klíčová technologie pro vývoj a výrobu pokročilých čipů, kterou Čína v současnosti dováží z jiných trhů.
Spojené státy však zakázaly Číně nakupovat nejpokročilejší extrémně ultrafialové (EUV) litografické systémy ASML, zatímco nizozemské exportní kontroly také omezily přístup k některým pokročilým strojům DUV.
Prezident Si Ťin-pching již oznámil, že tento úspěch představuje úspěch v národní iniciativě pro soběstačnost v polovodičích. Prvních pět čínských DUV strojů by mělo být letos dodáno předním čínským výrobcům čipů, přičemž dalších 20 je plánováno na rok 2027.